Jakubowski, Andrzej ; Tomaszewski, Daniel ; Łukasiak, Lidia ; Korwin-Pawlowski, Michael L. ; Malinowski, Arkadiusz ; Sekine, Makoto ; Hori, Masaru
Temat i słowa kluczowe:plasma etching ; FinFET, line edge roughness, parameter variability, plasma etching, technology computer aided design (TCAD) ; parameter variability ; technology computer aided design (TCAD) ; line edge roughness
Opis: Wydawca:Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy, Warszawa
Data wydania: Typ zasobu: Format: Identyfikator zasobu:ISSN 1509-4553, on-line: ISSN 1899-8852
DOI: ISSN: eISSN: Źródło:Journal of Telecommunications and Information Technology
Język: Prawa: